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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

6英寸双面对准光刻机

  • 制造厂商:SUSS
  • 购置日期:
  • 型号:MA6/BA6
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

    SUSSMA6光刻机是设计用于实验室研发,小批量生产的高分辨率光刻系统。该光刻机供了最好的基片适应性,可夹持不同厚度不同形状的晶片。同时标准尺寸基片最大直径为150mm。处理最大厚度可达6mm的晶片。SUSS MA6提供了各种接触式曝光程序。X-和Y-向位移精度在0.1μm以下。使用400nm的宽带光源曝光波长在真空模式下分辨率为0.7μm。同时可以选用不同的对准装置,分离视场顶部对准显微镜或视频显微镜,BSA底面对准显微镜对准方式。是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。    基本指标:
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    800元/小时,包括光刻胶费用。30分钟为基本时间单元
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