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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

6英寸分步重复光刻机

  • 制造厂商:nikon
  • 购置日期:
  • 型号:NSR 1755i7B
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     Email:pzhang2008@sinano.ac.cn
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

    把掩膜版上的图形按照一定的比例缩小复制到涂布有光刻胶的晶圆上,分区域进行步进式曝光。本机台可用于125mm×125mm掩模和φ100mm及150mm的晶圆高精度投影曝光,曝光精度可达500nm。    基本指标1. RESOLUTION:0.5μm               2. LENS DISTORTION:≤0.9μm               3. RETICLE ALIGNMENT ACCURACY:≤0.02μm               4. STEPPING ACCURACY
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    1200元/小时,包括光刻胶费用。特殊优惠价格,30分钟为基本时间单元
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