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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

等离子增强化学气相沉积机

  • 制造厂商:OXFORD
  • 购置日期:
  • 型号:plasmalab 80 plus
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

    该设备是专门为大学及研究机构设计的小型化产品,被广泛的应用于各种产品的研发以及小批量生产。它配置了直接开启式工艺平台,可以根据客户需要分别进行RIE(反应离子刻蚀)或PECVD(等离子增强型化学气相沉积)模式,应用灵活。 技术指标: PECVD: 装片:最大240mm衬底,最佳为100mm衬底 真空度范围:<100-2000mTorr RF功率:10-300W 衬底温度:100-380℃。 目前可淀积材料包括:SiO2,SiNx。 RIE: 装片:最大240mm衬底,最佳为100mm衬底
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    500元/小时,30分钟为基本时间单元
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