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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

感应耦合等离子体增强化学气相沉积机

  • 制造厂商:Oxpord Instruments Plasma Technology
  • 购置日期:
  • 型号:System 100 ICP 380 CVD
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     Email:pzhang2008@sinano.ac.cn
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

    利用感应耦合在较低温度下形成等离子体进行化学气相沉积薄膜生长。其主要特点是:离子能量和离子电流密度分别控制,典型的工艺压强:1-10 毫托,等离子体密度:大约5×1011/cm2,等离子体和衬底相接触,沉积过程中离子电流的能量低,离子电流(等离子体密度)取决于ICP的功率,ESS(静电屏蔽)功能做到真正的感应耦合,ICP是完全自动匹配(2个射频自动匹配单元)。典型应用有:面向剥离技术的低温沉积,低温沉积超高质量二氧化硅、氮化硅和碳化硅,低温沉积多晶硅。 技术指标: 装片:5片两英寸衬底 真空度:<2
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    900元/小时,30分钟为基本时间单元
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