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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

溅射台

  • 制造厂商:KURT LESKER
  • 购置日期:
  • 型号:LAB 18
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     Email:pzhang2008@sinano.ac.cn
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

       磁控溅射(magnetron-sputtering)是70年代迅速发展起来的一种“高速低温溅射技术”。磁控溅射是在阴极靶的表面上方形成一个正交电磁场。当溅射产生的二次电子在阴极位降区内被加速为高能电子后,并不直接飞向阳极,而是在正交电磁场作用下作来回振荡的近似摆线的运动。高能电子不断与气体分子发生碰撞并向后者转移能量,使之电离而本身变成低能电子。这些低能电子最终沿磁力线漂移到阴极附近的辅助阳极而被吸收,避免高能电子对极板的强烈轰击,消除了二极溅射中极板被轰击加热和被电子辐照引起损伤的根源,体现磁控溅
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    450元/小时+300元/次工艺+材料费:50元/10nm(Au及合金、pd)或75元/10nm(p
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