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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所

等离子体增强化学气相沉积机

  • 制造厂商:OXFORD
  • 购置日期:
  • 型号:Plasmalab System100
  • 生产国别:进口
  • 联系人:张嫔     联系电话:62872625     Email:pzhang2008@sinano.ac.cn
  • 功能/应用范围:

  • 主要技术指标:

    等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电等离子体使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应, 从而实现薄膜材料生长的一种新的制备技术。由于 PECVD 技术是通过反应气体放电来制备薄膜的,有效地利用了非平衡等离子体的反应特征,从根本上改变了反应体系的能量供给方式。 一般说来,采用 PECVD 技术制备薄膜材料时, 薄膜的生长主要包含以下三个基本过程: 首先,在非平衡等离子体中,电子与反应气体发生初级反应,使得反应气体发生分解,形成离子和活性基团的混合物; 其二,各种活性基团向薄膜生长表面和管
  • 服务内容:

  • 服务的典型成果:

  • 用户须知:

  • 收费标准:

    800元/小时,15分钟为基本时间单元
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